爱德华超高真空洁净度与耐高温设计，赋能精密覆层工艺真空泵

覆层工艺核心需求与挑战
1. 工艺关键要求：
- 极限真空环境：PVD镀膜需10⁻⁶~10⁻⁸ mbar真空度，确保靶材粒子均匀沉积；CVD工艺需快速抽除反应副产物气体。
- 零污染保障：杜绝油蒸气或微粒污染基材表面，防止涂层出现针孔、剥离等缺陷。
- 耐高温与耐腐蚀：耐受CVD反应室高温（300~1200℃）、等离子体轰击及腐蚀性气体（如Cl₂、SiH₄）。

2. 传统痛点：
- 油润滑泵反流污染导致涂层附着力下降（如工具镀TiN层硬度波动±20%）。
- 高温工况下润滑油碳化堵塞泵体，增加维护频率与成本。
- 抽速不足延长工艺周期，影响产能与能耗效率。

爱德华真空泵解决方案与适配型号
1. 干式真空泵系列（前级无油抽气）
- 适用型号：
- Edwards iXM系列磁悬浮爪式泵
- 真空范围：10⁻² mbar
- 抽速：200~1500 m³/h，适配大型磁控溅射、电弧离子镀设备
- 技术亮点：磁悬浮轴承实现10万小时免维护，耐等离子体粉尘沉积。

- Edwards nXRV系列耐腐蚀液环泵
- 真空范围：10~1013 mbar
- 抽速：50~2000 m³/h，适配CVD工艺尾气处理（如SiCl₄、NH₃）
- 技术亮点：哈氏合金叶轮+碳化硅密封，耐受pH 1~14强腐蚀工况。

2. 涡轮分子泵系列（高真空核心）
- 适用型号：
-Edwards STP系列磁悬浮分子泵
- 真空度：10⁻⁹ mbar
- 抽速：450~1800 L/s，适配高精度光学镀膜（AR/IR滤光片）
- 技术亮点：零振动设计，膜层均匀性误差＜0.1%。

- Edwards EXT255HT高温分子泵
- 真空度：10⁻⁷ mbar
- 抽速：255 L/s（N₂），适配高温CVD金刚石涂层、半导体ALD设备
- 技术亮点：耐温150℃，全金属密封抗热冲击。

性能优势与工艺价值
1. 涂层质量革命性提升
- 无油设计将PVD镀膜表面缺陷率降低至＜0.01%（传统油泵＞0.5%），提升刀具、模具涂层寿命30%~50%。
- STP分子泵振动抑制技术保障光学镀膜波长精度±0.5nm，满足激光雷达、航天光学镜片标准。

2. 生产效率与成本优化
- iXM系列快速抽气技术缩短腔体准备时间40%（如10⁻⁶ mbar真空达成时间从2小时缩至1.2小时）。
- 耐腐蚀设计减少CVD尾气处理泵体更换频率，年维护成本降低60%。

3. 极端工况适应性
- EXT255HT分子泵耐受SiC外延生长工艺的1600℃辐射热，真空稳定性波动＜±1%。
- nXRV液环泵处理蚀刻气体（如CF₄）时，耐腐蚀寿命达传统泵3倍以上。

4. 智能化与节能特性
- 集成IoT系统实时监测泵体温度、振动，预测性维护减少非计划停机70%；
- 磁悬浮技术节能模式下功耗降低45%，单台年省电费超5万元（以24/5运行计）。

典型应用场景
1.半导体薄膜沉积
- ALD原子层沉积：STP分子泵为12英寸晶圆提供10⁻⁸ mbar洁净真空，确保HfO₂高介电常数薄膜厚度均匀性≤±1Å。
-MOCVD氮化镓外延：iXM+nXRV组合快速抽除NH₃、TMGa副产物，提升LED外延片波长一致性。

2. 工具与模具涂层
- DLC类金刚石涂层：EXT255HT分子泵维持10⁻⁶ mbar真空，实现摩擦系数＜0.1的超硬涂层（硬度≥4000 HV）。
- CrN刀具镀层：干式泵无油污染保障涂层结合力＞100N（ISO 26443标准），延长钻头寿命3倍。

3. 光学与显示镀膜
- OLED蒸镀：STP分子泵10⁻⁷ mbar真空环境减少有机材料热分解，提升器件发光效率至150 lm/W。
- 光伏减反射膜：iXM泵组适配卷绕式镀膜机，支持1.5m宽幅柔性基材连续镀膜，产能提升25%。



爱德华真空泵以极限洁净真空与极端工况可靠，重塑覆层工艺标杆：
- 技术壁垒：磁悬浮+全干式技术突破传统油泵污染瓶颈，助力5nm以下半导体器件与超硬涂层量产。
- 良率与成本双赢：涂层缺陷率降低至ppm级，设备综合能效（OEE）提升20%，年节省成本超200万元（以中型产线计）。
- 合规性保障：符合SEMI S2/S8、ISO 14001国际标准，支持碳足迹追溯。
- 全球化服务网络：提供镀膜工艺真空仿真、泵组集成验证与7×24小时本地化技术支持。